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      1. 產品介紹
        PRODUCT DESCRIPTION

        設備采用電子束蒸發技術,電子從陰極燈絲發射,聚焦成一定的束流,經過陰極與坩堝之間的電位加速,使鍍料熔化蒸發,具有能量密度高的特點,可使熔點高達3000攝氏度以上的鍍料實現蒸發。膜層純度高,熱效率高。

        設備配備電子束蒸發源、離子源、膜厚監控系統、膜厚修正結構、穩定的傘狀工件旋轉系統;通過離子源輔助鍍膜,增加膜層致密性,穩定折射率,避免波長受潮偏移現象;通過全自動膜厚實時監測系統可保證工藝的重復性及穩定性;配備了自熔料功能,降低對操作工的技能依賴。

        設備適用于各種氧化物及金屬鍍料;可鍍制多層精密光學膜,如AR膜、長波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、漸變膜系等;已廣泛應用于手機玻璃蓋板、攝像頭、眼鏡片、光學鏡頭、游泳鏡、滑雪防護鏡、PET膜片/復合板、PMMA、光變磁性薄膜、防偽、化妝品等。

        型號
        內腔尺寸備注

        GX900

        φ900*H1050(mm)

        設備可根據客戶要求定制

        GX1350

        φ1350*H1500(mm)

        GX1600

        φ1600*H1550(mm)

        GX2050

        φ2050*H1650(mm)

        GX2700

        φ2700*H1950(mm

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