隨著手機產業需求迅速增長，傳統光學機的裝載量已無法滿足，振華為解決這一需求推出了磁控濺射鍍光學膜設備。

設備特點：

（1）工件架采用圓筒式設計，鍍膜面積大，產品裝載量是同規格電子束蒸發設備的2倍。工件架設計公轉與自轉結構，可適應多種形狀工件，用途更廣；

（2）采用中頻磁控圓柱靶濺射系統及離子源輔助系統，膜層致密，折射率高且穩定，附著力強，不易吸附水汽分子，在各類環境中，比傳統電子束蒸發設備所沉積的膜層保持更穩定的光學性能；

（3）配備了晶控監測系統精確控制膜層厚度，工藝穩定性高，重復性好；SPEEDFLO閉環及全自動控制系統，有效提高SiO2的沉積速率；

（4）恒溫夾具設計有效控制產品溫度，可適應超薄PET、PC材質類產品。

設備可用于沉積TiO2、SiO2、Nb2O5、In、Ag、Cr等材料，可實現各類光學彩膜、AR膜、分光膜等，已廣泛應用于PET膜片/復合板、手機蓋板玻璃、手機中框、3C電子產品、太陽眼鏡、香水瓶、水晶等產品。