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      1. 產品介紹
        PRODUCT DESCRIPTION

        設備配置了中頻磁控濺射鍍膜系統+陽極層離子源+SPEEDFLO閉環控制+晶控監測系統。

        采用中頻磁控濺射技術沉積各類氧化物,對比傳統的電子束蒸發鍍膜設備,具有更大的裝載量,且可適應更多形狀的產品,膜層致密性更高,附著力更強,不易吸附水汽分子,在各類環境中能保持更穩定的光學性能。

        設備適用于玻璃、水晶、陶瓷及耐溫塑膠類產品;可沉積各類氧化物、單質金屬,可制備增亮彩膜、漸變彩膜等介質膜。設備已廣泛應用于香水瓶、化妝品玻璃瓶、唇膏蓋、水晶裝飾件、太陽眼鏡、滑雪防護鏡、小五金件等裝飾性產品。

        型號
        內腔尺寸備注

        CF1914

        φ1900*H1400(mm)

        設備可根據客戶要求定制

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