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      1. 產品介紹
        PRODUCT DESCRIPTION

        實驗型卷繞鍍膜設備采用磁控濺射及陰極電弧相結合的鍍膜技術,既滿足了對膜層致密性要求,又滿足了高離化率的要求;立式結構,工件卷繞系統垂直安裝在真空室內;多室門設計,陰極安裝在側門上,可裝六套陰極源或離子源,開門即可對靶進行維護或更換;設備可一次性進行工件表面處理及鍍制多層膜,實現多層膜沉積。適用多種金屬或化合物鍍膜材料。

        設備具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩定、易維護的特點,尤其適用于實驗室高校使用,客戶可根據自身不同需求選配。

         


        型號
        設備尺寸(寬幅)備注

        RCW300

        300(mm)

        設備可根據客戶要求定制



         

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