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2023-07
沉積硬質涂層的常規技術
硬質涂層多是金屬陶瓷涂層 (TiN 等)，由涂層中的金屬和反應氣化合反應生成。最初是采用熱 CVD 技術在 1000℃高溫下由熱能提供化合反應激活能，這樣的溫度只適合在硬質合金刀具上沉積 TiN 等硬質涂層，至今仍然是在硬質合金刀頭上沉積 TiN--Al2O3復合涂層的重要技術。
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2023-07
空心陰極離子鍍膜的條件
引燃空心陰極弧光需要具備以下條件：
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2023-07
電子槍蒸發鍍膜的操作過程
高壓電子槍發射的電子束流的密度很大，如果電子束落點控制不當，電子束流不能偏轉到金屬錠上，可能將鍍膜室壁等處加熱燒熔，所以按照電子槍的操作程序進行操作很重要。
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2023-07
弧光電子流的特點與產生方法
弧光放電產生的弧光等離子體中的電子流、離子流、高能中性原子的密度比輝光放電高得多。在鍍膜空間內有更多的氣體離子和金屬電離、受激發的高能原子及各種活性基團，它們在鍍膜過程中的加熱、清洗、鍍膜階段發揮了重要作用。
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