07.14
弧光電子流的特點與產生方法
弧光放電產生的弧光等離子體中的電子流、離子流、高能中性原子的密度比輝光放電高得多。在鍍膜空間內有更多的氣體離子和金屬電離、受激發的高能原子及各種活性基團，它們在鍍膜過程中的加熱、清洗、鍍膜階段發揮了重要作用。
07.07
空心陰極離子鍍膜的工藝過程
空心陰極離子鍍膜的工藝過程如下：
07.07
晶硅太陽能電池鍍膜技術的發展
晶硅電池技術發展的方向包括 PERT技術與 Topcon 技術，這兩種技術被視為傳統擴散法電池技術的延伸，它們共同特點是電池背面都有鈍化層，而且都采用一層摻雜多晶硅作為背場。
06.21
射頻放電的利用
有利于濺射鍍絕緣膜。電極極性的迅速變化可用于直接濺射絕緣靶材獲得絕緣膜。如果采用直流電源濺射沉積絕緣膜時，絕緣膜會阻擋正離子進入陰極，形成正離子堆積層，易造成擊穿打火。
